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 隨著先進材料科學的發(fā)展，對高溫過程的精確控制提出了前所未有的要求。無論是二維材料的金屬嵌入、半導體界面調控，還是新型磁性納結構的構建，高溫環(huán)境下的過程控制都是決定最終結構與性能的關鍵因素。在此背景下，IMPAC IGA 6/23 Advanced 光學高溫計，以其非接觸、高精度、響應快等特性，成為眾多高端科研項目及工業(yè)應用的優(yōu)選測溫設備。

 精準控溫，保障石墨烯多層結構制備質量

在近期發(fā)表于 Nanotechnology 的研究中，研究團隊在碳化硅基底上構建了石墨烯/鈷/鉑（G/Co/Pt）多層異質結構，并對其結構、化學與磁性能開展系統(tǒng)研究。為實現對Pt與Co金屬層的嵌入式重構（intercalation），實驗過程中需要在超高真空環(huán)境下精確加熱至700–900°C。

在該過程中，IMPAC IGA 6/23 光學高溫計承擔了關鍵任務：

•  實時監(jiān)測樣品表面溫度

•  確保金屬嵌入的溫控窗口精度控制在 ±1°C

•  避免因溫度偏差導致石墨烯層脫附或金屬硅化物形成

研究表明，正是得益于該高溫計的精準控制，研究人員得以成功獲得質量均一、結構穩(wěn)定的金屬-石墨烯異質結，有效抑制了Co與SiC的反應，為實現高品質磁結構提供了基礎保障。

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 非接觸式測量，適配高真空與極端條件

IMPAC IGA 6/23 高端紅外測溫系列，其核心優(yōu)勢包括：

•  非接觸式紅外測量技術：避免傳統(tǒng)熱電偶污染或損傷樣品；

•  高溫段精度出眾：適用范圍可達 50°C 至 2500°C，特別適合石墨烯、金屬膜、陶瓷等材料；

•  適應真空、惰性氣氛等實驗條件：確保溫度數據在特殊環(huán)境下依然可靠；

•  快速響應時間（ms級）：適合動態(tài)退火、快速升溫等過程監(jiān)控。

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 科研與工業(yè)的共同選擇

IMPAC IGA 6/23 不僅廣泛應用于基礎研究（如材料物理、薄膜沉積、磁性異質結研究等），更在以下工業(yè)領域展現出卓越性能：

•  半導體晶圓加熱工藝

•  金屬粉末燒結與熱處理

•  光伏硅片退火控制

•  高溫反應器溫度管理

其多功能模擬/數字輸出接口也方便與實驗室控制系統(tǒng)或工業(yè)自動化系統(tǒng)集成，實現溫度閉環(huán)控制。

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總結

IMPAC IGA 6/23 Advanced 光學高溫計，以其非接觸、高精度、環(huán)境適應性強等技術優(yōu)勢，為前沿材料制備提供了可靠的溫度測控保障。在二維材料、自旋電子學及高溫功能薄膜等研究領域，已成為推動科學進步和產業(yè)升級的關鍵測溫設備。

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